Оборудование лазерной очистки 2.0KW

Источник: Raycus RFL-C025H

Чиллер: S＆A  RMFL-2000

Пистолет очистки: SUP22C  

Ширина очистки: 10-300мм

Защитное стекло: D30*5  

Язык: китайский, английский, русский

Газ вспомогательный: азот, кислород, гелий и углекислый газ. (зависит от материала обработки)